某半导体行业集成电路芯片正确处理生产厂在晶圆正确处理进程中，便用硅烷去硅外延性发芽，空气干洗塔导致高有机废气浓度含硅生产生活污水。生产生活污水有pH跌涨大（2-11）、硅的含量高的特征 ，传统性正确处理手段易出現硅垢短路故障。 废气营养成分及源 生活污水具体部分为： 溶于性硅酸盐 ：SiO₂浓度值达1000-1500mg/L 硫酸钠/氢脱色钠 ：洗洁塔强酸强碱洗洁液农药残留 粉末硅 ：纳米技术级SiO₂溶液 痕量砷 ：原材不溶物带往 进行处理艺标准流程 的创新主要采用"二级结合+膜筛选+减压蒸馏晶粒"加工过程： 二级中合 ：用CaO调接pH至4-5，提取硅酸钙沉垫，硅我们要除率60%。 特殊与 ：加Na₂CO₃将pH提高了至9，进那步放置用不完硅，并接用镁剂除砷。 超滤膜系统性 ：0.02μm瓷器膜过虑纳米技术级硅颗粒肥料，通量稳固在80LMH。 MVR化掉器 ：萃取高盐工业废水，凝结出Na₂SO₄副成品，水使用率超90%。 以后使用效果 总硅从1500mg/L降下来5mg/L下面的 砷含量的从0.8mg/L降下来0.01mg/L 整体无积垢运动多于2年 年回收公司盐酸钠结晶约800吨